Nikon MM-400/800 Series

MM-400 / 800 Series

진보된 차세대 측정 현미경

다른 어플 리케이션에 사용할 수있는 10개의 바디

  큰 스스테이지 (Max, 300mm x 200mm x 200mm)

  MM-800/LM: Motorized Z Axis

  MM-800/L: Built-in Z Linear Scale

  MM-800/: 2 axes measurement model

  MM-800/S: For 3rd Party DRO

  MM-800/SL: For 3rd Party DRO with Built-in Z Linear Scale

작은 스트로크 스테이지 (Max, 150mm x 100mm x 150mm)

  MM-400/LM: Motorized Z Axis

  MM-400/L: Built-in Z Linear Scale

  MM-400/: 2 axes measurement model

  MM-400/S: For 3rd Party DRO

  MM-400/SL: For 3rd Party DRO with Built-in Z Linear Scale

추가된 바디의 강도는 새로 개발된 12x8 단계와 같은 큰 스테이지의 사용을 가능하게 합니다.

 

 

높은 강도의 백색 LED 조명기는 brightfield 이용 표준으로 제공됩니다. 이 조명기의 기능은 고정밀적이고 효율적으로 측정을 가능하게하며,  전구 교체하지 않고 일정한 색 온도를 유지할 수 있습니다.

 

 

Universal Epi-Illuminator에 대한 비 접촉 높이 측정 기술 Head TTL Laser AF

TTL Laser AF (Universal Type)
이 레이저 AF 시스템은 0.5μm로써  repeatability로 0.5 초의 초점 속도를 갖추고 있습니다.

Focusing Aid (FA)
새로 개발된 분할 프리즘 중심으로 FA는 Z 축 측정 도중에 초점을 맞추고 정확 있도록 날카로운 패턴을 제공합니다.

다른 목적으로 발생된 측정 오류가 최소화 됩니다.

 

 백색 LED 조명

조명, X / Y 스테이지와 Z 데이터는 데이터 처리 및 시스템 제어를위한 전자 맥스 소프트웨어를 실행하는 외부 컴퓨터에 대한 인터페이스로서 MM 컨트롤러에 연결될 수 있습니다.

Laser AF Tracking on FPC

Focused

Front focus

Rear focus

High Power Microscopic Model with Universal Epi-Illuminator

이러한 "유니버설"모델은 고해상도 이미징 및 중요한 측정을 위한 니콘의 metallurgicalmicroscope 구성 요소의 가장으로 측정 스탠드를 결합합니다. brightfield, darkfield, DIC 대비, 편광 및  epi-fluorescence: 니콘 고급 LU 목표 등 현미경 기술의 thefull 범위를 특색화 하였습니다.  디지털 이미지 캡쳐, 디지털 필드의 - viewmeasurement 및 데이터 저장 공간으로 tostreamline 이미징 작업을 자동화하였습니다.

Applications

Semiconductor packages, Bonding placement, Loop height, FPD panel (LCM) MEMS, Wafer level CSP, HDD slider

Metalized Patterns of FPC

FFD - Cell Process

CCD

Color Filter